テクニカルセミナー開催のご案内

  • 無機分析セミナー2018 | テクニカルセミナー
    日時:2018年10月9日(火)
    場所:Yokohama/Japan | 横浜ビジネスパーク ウエストタワー7階 中会議室
    詳細:

     金属・高分子材料・無機材料の高マトリックスサンプルの測定において、干渉を低減する方法や各種干渉補正方法。
    高分解能ICP発光分光分析装置PlasmaQuant® PQ9000・キセノン連続光源原子吸光分析装置contrAA®の特長、測定例やノウハウをご紹介ご紹介します。

    参加費:無料 定員:30名(先着順)

    ユーザトレーニングに関する詳細は下記リンクからトレーニング案内書をダウンロードしてご確認ください。


    お申し込みは下記リンクから参加申込書をダウンロード頂きFAX、またはe-Mailにて弊社へご連絡お願い致します。

    参加申込書

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045-340-5740045-340-5745sales@analytik-jena.co.jp

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