Analytik Jena mit ICP-Massenspektrometern auf der Winter Conference on Plasma Spectrochemistry (WCPS) in den USA

19.01.2016 | News

Jena, 19. Januar 2016 — Die Analytik Jena AG präsentierte sich mit dem PlasmaQuant® MS und dem PlasmaQuant® MS Elite erstmals auf der Fachausstellung und im Vortragsprogramm der WCPS, dem größten US-amerikanischen Wissenschaftskongress für Spektrometrie mittels induktiv gekoppeltem Plasma. Nach der Akquisition der ICP-MS-Technologie im September 2014 sowie der Markteinführung des PlasmaQuant® MS im Februar 2015 in Münster hat die Analytik Jena mit dem PlasmaQuant® MS Elite nun ihre Portfolio um ein Gerät mit deutlich verbesserter Auflösung erweitert. Die Geräte der PlasmaQuant® MS-Serie werden beispielsweise in der Materialanalyse, der Lebensmittelsicherheitsüberprüfung, in der Pharmazie, der klinischen Chemie, der Umweltanalyse, dem Bergbau oder der Petrochemie eingesetzt.

Im Fokus der Gespräche auf der WCPS standen die für den Anwender wichtigsten Einsatzgebiete in der Routine und Forschung. Die als Benchtop-System konzipierten Geräte der Analytik Jena zeichnen sich durch eine Reihe technologischer Weiterentwicklungen aus, die die Anwendungsmöglichkeiten auf verschiedensten Gebieten deutlich verbessern.

Im Rahmen der WCPS stellten die Entwickler und Produktspezialisten der Analytik Jena AG die Produktneuheiten in drei verschiedenen Wissenschaftsforen vor. Einen Schwerpunkt der Diskussion bildeten dabei die Vorteile der Laserkopplung für Routine- und Forschungsanwendungen. Die extrem hohe Empfindlichkeit des PlasmaQuant® MS Elite ermöglicht hier zum Beispiel die Arbeit mit kleinsten Laserspotgrößen und damit minimalem Probeneinsatz.

Die Winter Conference on Plasma Spectrochemistry fand vom 10. bis 16. Januar 2016 in Tucson, Arizona, statt und versammelte mehr als 600 Wissenschaftler und Anwender aus dem Bereich der instrumentellen Analytik.

Konferenz-Vorträge:
LA-ICP-MS as a Flexible Tool for Quality Control and Research Applications, René Chemnitzer Development and Characterization of a New High Sensitivity ICP-MS, Iouri Kalinitchenko Trace Analysis of As, Bi, Ir, P and V in Very High-Purity Metals by High Resolution ICP-OES, Jan Scholz

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Pressesprecherin
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