Eine neue Generation der Plasmaleistungsmerkmale in der ICP-OES — PlasmaQuant® PQ 9000

28.05.2015 | Produktinformation

Oftmals wirken sich schon geringste Mengen von Zusatzstoffen oder Verunreinigungen gravierend auf Leistungsfähigkeit und Güte von Produkten und Materialien aus. Eine schnelle und verlässliche Ultraspurenbestimmung in immer komplexeren und konzentrierten Probenmatrices ist somit zunehmend die oberste Prämisse vieler Laboratorien, die mit Produktüberwachung und Qualitätssicherung betraut werden.

Seit Einführung der optischen Plasmaemissionsspektroskopie (ICP-OES) bestimmt die Stabilität des induktiv gekoppelten Plasmas deren applikatives Einsatzvermögen, weil die Nachweisstärke der ICP-OES in hohem Maße von der Fähigkeit des Plasmas abhängt hohe Probenbeladung zu tolerieren. Für Materialien wie Solen oder Naphtha werden die besten Nachweisgrenzen immer dann erreicht, wenn eine hervorragende Signalstabilität bei minimaler Verdünnung erzielt wird. Ist allerdings, wie in vielen herkömmlichen Geräten üblich, nur eine begrenzte analytische Stabilität des Plasmas sicher gewährleistet, wird durch Probenverdünnung der Arbeitsbereich der Ultraspurenanalytik deutlich eingeschränkt.

Mit dem High-Resolution Array ICP-OES PlasmaQuant® PQ 9000 bringt Analytik Jena jetzt eine neue Generation freilaufender High-Frequency Generatoren auf den Markt. Deren unerreichte Plasmaperformance ermöglicht im Routinebetrieb über einen durchschnittlichen Arbeitstag selbst für höchste Matrixbeladungen minimale Liniendrifts und RSD-Werte von etwa 1 %.

Überdenken Sie die Bedeutung der Plasmaperformance für Ihre Analytik! Entscheiden Sie sich für den High-Frequency Generator.


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