La Nouvelle Donne de la Performance Plasma dans l’ICP-OES — PlasmaQuant^® PQ 9000

Dans les produits et matériaux d’aujourd’hui, les quantités d’additifs et d’impuretés à l’état de traces influencent les performances et la qualité. La détection rapide et fiable de traces dans des échantillons toujours plus complexes et concentrés est ainsi devenue l’objectif-clé de beaucoup de laboratoires engagés dans le contrôle qualité des produits.

La stabilité du plasma couplé par induction (ICP), et plus particulièrement l’introduction de l’échantillon présente une limitation majeure en ce qui concerne l’ICP d’émission optique (OES), du fait que la capacité de détection est gravement diminuée par son intolérance aux matrices saturées comme la saumure ou les essences. Les limites de détection réelles seront meilleures lorsqu’une bonne stabilité du signal est atteinte avec une dilution minimale, la dilution limitant le domaine des analyses des ultra-traces.

Avec l’introduction du Détecteur Haute-Résolution ICP-OES PlasmaQuant^® PQ 9000, Analytik Jena renouvelle le marché de l’ICP-OES par l’apport de son générateur haute-fréquence sans coût de fonctionnement, offrant une performance de plasma inédite pour les matrices les plus chargées, des dérives inférieures à 5% et des valeurs de RSD autour de 1% en moyenne sur une journée de travail. Repensez la performance plasma! Pensez Générateur Haute-Fréquence.